中,四氟化硅是最難去除雜質(zhì),四氟化硅的含量過高,會影響電路中電子器件的質(zhì)量。GB/T14603-2009《電子工業(yè)用氣體 三氟化硼》規(guī)定:三氟化硼氣體中四氟化硅的含量最好在20ppm以下。目前,氣體中的硅含量的測定方法有很多種(如重量法、原子吸收光譜法、氟硅酸容量法等),硅鉬藍(lán)分光光度法存在諸多優(yōu)點(diǎn)...
電子工業(yè)用氣體三氟化硼 GB/T 14603-1993 1993-08-26 2009-10-30 2010-05-01 79 GB/T 14604-2009 電子工業(yè)用氣體氧 GB/T 14604-1993 1993-08-26 2009-10-30...
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