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ASTM E986-04
掃描電子顯微鏡射束尺寸特征描述標準實施規程

Standard Practice for Scanning Electron Microscope Beam Size Characterization


標準號
ASTM E986-04
發布
2004年
總頁數
3頁
發布單位
美國材料與試驗協會
替代標準
ASTM E986-04(2010)
當前最新
ASTM E986-04(2024)
 
 
適用范圍
作為第一步,SEM 的傳統分辨率測試需要在高放大倍數下拍攝細顆粒樣品的顯微照片。操作員需要測量顯微照片上兩個相鄰但獨立的邊緣之間的距離。這些邊緣的間距通常小于一毫米。由于具有如此小直徑和低電流的光束的信噪比,它們的圖像質量通常不是最佳的。操作員的判斷取決于測量人員的個人敏銳度,并且可能存在很大差異。使用這種做法可以得到 SEM 電子束尺寸表征,其重現性明顯高于使用細顆粒樣品的傳統分辨率測試。
1.1 這種做法提供了一種可重現的方法,通過該方法可以對掃描電子顯微鏡 (SEM) 的某一方面的性能進行評估。被表征。 SEM 的分辨率取決于許多因素,其中一些因素是電子束電壓和電流、透鏡像差、樣品對比度以及操作員-儀器-材料相互作用。然而,任何條件下的分辨率都受到電子束尺寸的限制。該尺寸可以通過測量多種材料的有效表觀邊緣銳度來量化,建議使用其中兩種材料。這種做法需要 SEM 能夠對建議的材料執行線掃描跟蹤,例如生成 Y 偏轉波形。這種做法適用的 SEM 放大倍數范圍為 1000 至 50 000 倍。可以嘗試更高的放大倍數,但進行精確測量可能會遇到困難。
1.2 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題(如果有)。本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監管限制的適用性。

專題


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