該標準描述了工業(yè)水中活性硅(光度法——還原鉬硅酸)、總硅(熔融和光度法)以及懸浮硅(過濾、熔融和光度法)的測定方法。這些方法適用于工業(yè)和天然水,但存在一定的限制。
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硅可以在溶液中或懸浮狀態(tài)下存在。大多數(shù)溶液中的硅可以通過描述在第104.1節(jié)中的程序檢測到。然而,在某些情況下,硅可能以非活性多聚體形式存在于溶液中。懸浮硅在天然水中通常以細小的粘土顆粒的形式存在,這些顆粒可能會通過常規(guī)水處理廠。因此,即使含有低活性硅含量的高品質鍋爐給水也可能包含大量的懸浮硅,并在鍋爐內部條件下轉化為溶液。
描述的方法適用于工業(yè)水中活性硅(光度法——還原鉬硅酸)、總硅(熔融和光度法)以及懸浮硅(過濾、熔融和光度法)的測定。
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