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x射線光電子能譜和質(zhì)譜

本專題涉及x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)有48條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜和質(zhì)譜涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量、無損檢測(cè)、電子元器件綜合、長(zhǎng)度和角度測(cè)量、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測(cè)量。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜和質(zhì)譜涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、光學(xué)測(cè)試儀器、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、化學(xué)、電子測(cè)量與儀器綜合。

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• JIS K 0167:2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實(shí)驗(yàn)室測(cè)定相對(duì)敏感因子的使用指南

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析.深度剖面.用單層和多層薄膜在X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中測(cè)定濺射速率的方法
• ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評(píng)估規(guī)程
• ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評(píng)估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
• ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
• ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
• ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
• ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 41064-2021 表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測(cè)定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法
• GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求

英國(guó)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測(cè)定方法...
• 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測(cè)定方法
• BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評(píng)估程序
• BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評(píng)估規(guī)程
• BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性
• BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
• BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
• BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定

德國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評(píng)估程序
• DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評(píng)估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本

國(guó)家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
• GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
• GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性
• GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測(cè)定
• GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
• GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
• ASTM E995-04 螺旋電子光譜法和X射線光電光譜法中減去背景技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
• SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)方法

韓國(guó)科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
• KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
• BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測(cè)定

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• NF X21-061:2008 表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測(cè)定
• NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)

KR-KS，關(guān)于x射線光電子能譜和質(zhì)譜的標(biāo)準(zhǔn)

• KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準(zhǔn)

本站其他標(biāo)準(zhǔn)專題： x射線光電子能譜和質(zhì)譜，和x射線光電子能譜，光電子能譜和x射線能譜，x射線能譜分析和x射線光電子能譜，電子和x射線光電子能譜儀，紫外光電子 和x射線光電子能譜。

 

可能用到的儀器設(shè)備