EN
RU
ES
x射線光電子譜
本專題涉及x射線光電子譜的標準有98條。
國際標準分類中，x射線光電子譜涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測量、無損檢測、電子元器件綜合、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、長度和角度測量、醫(yī)療設(shè)備、表面處理和鍍涂、金屬的腐蝕。
在中國標準分類中，x射線光電子譜涉及到基礎(chǔ)標準與通用方法、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、物理學(xué)與力學(xué)、化學(xué)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、光學(xué)測試儀器、標準化、質(zhì)量管理、綜合測試系統(tǒng)、電子測量與儀器綜合、光學(xué)計量儀器。
德國標準化學(xué)會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標度校準 (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標校準（ISO 15472:2010）；英文文本
英國標準學(xué)會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
- BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
- BS ISO 18118:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性系數(shù)的使用指南
- BS ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
- BS ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
- BS ISO 20903:2019 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 用于確定峰值強度的方法和報告結(jié)果時所需的信息
- BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- BS ISO 24237:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).強度標的可重復(fù)性和穩(wěn)定性
- BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度尺度的線性
國際標準化組織，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
- ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
- ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
- ISO/TR 18392:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).背景測定程序
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
- ISO 18118:2004 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 18118:2015 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
- ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
- ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報告
- ISO 15470:2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
- ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
- ISO 20903:2019 表面化學(xué)分析 - 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜 - 用于確定峰值強度的方法和報告結(jié)果時所需的信息
- ISO 24237:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜法.強度的可重復(fù)性和穩(wěn)定性
- ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
- ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- ASTM E1523-03 X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)標準指南
- ASTM E1523-09 X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)的標準指南
- ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標準指南
- ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程
- ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程
- ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標準實施規(guī)程
- ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標準實施規(guī)程
- ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標準指南
- ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準的標準指南
- ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標準規(guī)程
- ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標尺的標準實踐
- ASTM E902-94(1999) 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標準實施規(guī)程
- ASTM E902-05 檢查X射線光電子光譜儀的操作特性的標準實施規(guī)程
- ASTM E2735-14 選擇X射線光電子光譜40;XPS41試驗所需校準的標準指南
- ASTM E2735-13 X射線光電子光譜法 (XPS) 試驗所需校準選擇的標準指南
- ASTM E1523-97 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標準指南
- ASTM E1523-15 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標準指南
法國標準化協(xié)會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- NF X21-061:2008 表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
- NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報告
- NF X21-058:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
- GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
- GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
- GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
- GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
- GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標尺的校準
- GB/T 28893-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息
- GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法
- GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
- GB/T 28633-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強度標的重復(fù)性和一致性
- GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標的線性
- GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
- GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告
行業(yè)標準-電子，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標準導(dǎo)則
- SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標準方法
未注明發(fā)布機構(gòu)，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度線性度
澳大利亞標準協(xié)會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標度的校準
- AS ISO 15470:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述
- AS ISO 24237:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．強度標的可重復(fù)性和恒定性
- AS ISO 19318:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．電荷控制和電荷調(diào)整用報告法
- AS ISO 19319:2006 表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
韓國科技標準局，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- KS D ISO 18118:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.同質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感性因子的使用指南
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀部分性能參數(shù)說明
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
- KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報告
- KS D ISO 19319:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強度標度的線性
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜均勻材料定量分析用實驗測定的相對靈敏度因子的使用指南
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標尺的校準
- GB/T 33502-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)記錄與報告的規(guī)范要求
KR-KS，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準
日本工業(yè)標準調(diào)查會，關(guān)于x射線光電子譜的標準
- JIS T 0306:2002 用X射線光電子光譜法分析金屬生物材料形成的無源膜的狀態(tài)
- JIS K 0167:2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南
- JIS K 0152:2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強度標的重復(fù)性和一致性
